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분석실
-
ICP
- 기기명
유도결합플라즈마 원자분광광도계(Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometer)
- 기기정보
- 모델번호 : ICPS-7500
- 제조회사 : Shimadzu(Japan)
- 구입년도 : 2002
- 용도
약 6500°K의 플라즈마를 통과하는 시료의 여기된 원자(들뜬 상태)가 낮은 에너지준위(바닥상태)로 돌아갈 때 방출되는 복사선의 파장 및 발광강도를 측정하여 시료 중의 원소를 정성 또는 정량 분석하는 장치
T.063.270.3691
분석의뢰서 다운로드 ICP예약현황 - 기기명
X선실
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XRD
- 기기명
X선회절분석기(X-RAY Diffractometer)
- 기기정보
- 모델번호 : D8 ADVANCE
- 제조회사 : Bruker
- 구입년도 : 2022
- 용도
X-선관에서 발생하는 특성 X-선을 시료에 조사함으로서 발생되는 X-선 회절을 분석하여 시료 속에 존재하는 결정의 종류와 구조 및 결정 간의 거리, 크기 등을 알아 낼 수 있는 장치
T.063.270.2264
분석의뢰서 다운로드 XR예약현황 - 기기명
전자현미경실
-
SEM
- 기기명
주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)
- 기기정보
- 모델번호 : JSM-5900
- 제조회사 : JEOL(Japan)
- 구입년도 : 1999
- 용도
집·가속된 Electron beam이 Sample의 표면에 주사되면서 Sample과의 상호작용에 의해 발생된 S.E(Secondary Electron)를 이용하여 그 표면을 관찰하는 장치.수분을 포함하지 않은 모든 시편의 표면 형상 분석 및 EDS (Energy Dispersive x-ray spectrometer)를 이용한 성분분석에 사용됨
- 기기명
-
SEM
- 기기명
고성능주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)
- 기기정보
- 모델번호 : SU3900
- 제조회사 : Hitachi
- 구입년도 : 2022
- 용도
집·가속된 Electron beam이 Sample의 표면에 주사되면서 Sample과의 상호작용에 의해 발생된 S.E(Secondary Electron)를 이용하여 그 표면을 관찰하는 장치. BSE(Backscattered Electron) 이미지도 가능함. 수분을 포함하지 않은 모든 시편의 표면 형상 분석 및 EDS (Energy Dispersive x-ray spectrometer)를 이용한 성분분석에 사용됨
- 기기명
-
FE-SEM
- 기기명
전계방사형주사전자현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope)
- 기기정보
- 모델번호 : SU-70
- 제조회사 : HITACHI(Japan)
- 구입년도 : 2013
- 용도
집·가속된 Electron beam이 Sample의 표면에 주사되면서 Sample과의 상호작용에 의해 발생된 S.E(Secondary Electron)를 이용하여 그 표면을 관찰하는 장치.수분을 포함하지 않은 모든 시편의 표면 형상 분석 및 EDS (Energy Dispersive x-ray spectrometer)를 이용한 성분분석에 사용됨. EBSD(Electron Backscatter Diffraction)를 이용하여 재료의 방위를 분석하는 구조분석도 가능함.
T.063.270.3692
분석의뢰서 다운로드 SEM예약현황 - 기기명
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ION Sputter
- 기기명
이온 코팅기(Ion Sputter)
- 기기정보
- 모델번호 : E-1010
- 제조회사 : Hitachi(Japan)
- 구입년도 : 1994
- 용도
SEM 분석 전 Sample의 표면 코팅을 위한 증착장비 분석 중 열전자에 의한 시편의 손상을 막고 부도체 표면을 도체화 하기 위한 장치
- 기기명
-
ION Sputter
- 기기명
이온 코팅기(Ion Sputter)
- 기기정보
- 모델번호: E-1045
- 제조회사: HITACHI
- 구입년도: 2013
- 용도
SEM 분석 전 Sample의 표면 코팅을 위한 증착장비로 SEM 분석 중 열전자에 의한 시편의 손상을 막고 부도체의 표면을 도체화하기 위한 장비
- 기기명
-
ION Sputter
- 기기명
이온 밀링기(Ion Milling System)
- 기기정보
- 모델번호: IM4000
- 제조회사: HITACHI
- 구입년도: 2013
- 용도
전자현미경(SEM) 분석 전 Sample의 미세 영역 관찰을 위해 필요한 전처리 장비로 Ar Ion Beam을 이용하여 Sample의 단면 절단(Cross Section)이나 표면에 조사하여 특정부분을 정밀하게 연마(Flat Milling)할 수 있는 장비
- 기기명
분석 및 실험절차
시험분석 수수료
장비명 | 시험항목 | 사용기준 | 수수료(단위: 원) | ||
---|---|---|---|---|---|
공대 | 교내 | 외부 | |||
ICP | 성분분석 | ㆍ시료3개: 기본 20,000원 ㆍ시료 4개부터: 시료당 3,000원 |
수수료 총액의 1.5배 |
수수료 총액의 2배 |
|
FE-SEM | 촬영 성분분석 |
시간당 | 50,000 | ||
SEM | 촬영 성분분석 |
시간당 | 30,000 | ||
EBSD | 구조분석 | 시간당 | 20,000 | 수수료 총액의 1.5배 |
수수료 총액의 2배 |
이온밀링기 | 평면가공 | 시간당 | 20,000 | ||
단면가공 | 시간당 | 70,000 | |||
XRD | 분말분석 | 시간당 | 30,000 | ||
박막분석 | 샘플당 | 20,000 |